La Chine développe une machine de lithographie rivalisant avec l’ASML, mais pour la recherche uniquement
Les capacités de fabrication de puces en Chine progressent rapidement, une entreprise locale ayant réussi à développer le premier outil de lithographie à faisceau d’électrons destiné à un usage commercial.
La Dernière Machine de Lithographie Chinoise Utilise des Faisceaux d’Électrons
En ce qui concerne les équipements de lithographie, la Chine reste en retrait par rapport à l’Occident, n’ayant pas accès à l’équipement de pointe d’ASML. Cela représente un obstacle majeur pour le pays dans le développement de puces avancées. Cependant, des efforts sont en cours pour introduire des équipements EUV sur le marché. Des chercheurs de l’Université de Zhejiang à Hangzhou ont annoncé avoir conçu un outil de lithographie utilisant des faisceaux d’électrons.
Ce dispositif, nommé Xizhi, bien qu’il ne soit pas au niveau des équipements High-NA d’ASML, présente certaines similitudes. Les outils de lithographie à faisceau d’électrons (EBL) sont soumis à des restrictions à l’exportation, mais cette avancée représente un important pas en avant pour l’industrie des puces domestiques. Néanmoins, plusieurs limitations doivent être prises en compte.
Avec une précision de 0,6 nm, l’équipement se rapproche des normes de l’EUV High-NA d’ASML. Cependant, son débit est considérablement affecté par le processus d’écriture point par point, qui peut prendre des heures pour réaliser un seul wafer. Les données mettent donc en lumière un point essentiel : la vitesse de production est encore insuffisante.
Crédits image : ASML
Actuellement, la Chine utilise encore des machines DUV pour ses puces grand public. L’EBL pourrait servir à réduire l’écart en matière de R&D avec les États-Unis. Il offrirait à la Chine la possibilité de concevoir des prototypes de puces avancées. Cependant, ce processus n’est pas viable pour la production en masse. Bien que la Chine ait encore des années de retard dans le domaine, l’écart se resserre progressivement.
Il sera intéressant d’observer l’impact de la lithographie à faisceau d’électrons sur les ambitions de la Chine dans le secteur des semi-conducteurs.
